东莞市灿煜化工有限公司

二氧化硅_灿煜化工_饲料级二氧化硅：

二氧化硅的应用及环保通知一

二氧化硅在涂料及饱和树脂的增稠剂和触变剂

在大型桥梁和船底漆实用的原浆涂料中，超细二氧化硅依靠表面羟茎作用形成氢键，在涂刷和喷涂时具有较好的流动性，而候静止依靠表面羟茎的氢键作用很快失去流动性，二氧化硅，纺织路原浆涂料的流褂现象，在不饱和树脂的作用与之相似。

二氧化硅的用途性能

      在微电子工艺中， 二氧化硅（SiO 2 ）薄膜因其优越的电绝缘性和工艺的可行性而被广泛采用。在半导体器件中，饲料级二氧化硅， 利用SiO 2 禁带宽度可变的特性， 可作为非晶硅太阳电池的薄膜光吸收层，涂料级二氧化硅， 以提高光吸收效率; 还可作为金属2氮化物2氧化物2半导体(MN SO ) 存储器件中的电荷存储层， 集成电路中CMOS 器件和SiGeMOS 器件以及薄膜晶体管(TFT ) 中的栅介质层等。此外， 随着大规模集成电路器件集成度的提高， 多层布线技术变得愈加重要， 如逻辑器件的中间介质层将增加到4～ 5 层， 这就要求减小介质层带来的寄生电容。鉴于此， 现在很多研究者都对低介电常数介质膜的种类、制备方法和性能进行了深入研究。对新型低介电常数介质材料的要求是: 在电性能方面具有低损耗和低耗电; 在机械性能方面具有高附着力和高硬度; 在化学性能方面要求耐腐蚀和低吸水性; 在热性能方面有高稳定性和低收缩性。目前普遍采用的制备介质层的SiO 2， 其介电常数约为4. 0， 并具有良好的机械性能。如用于硅大功率双极晶体管管芯平面和台面钝化， 提高或保持了管芯的击穿电压， 并提高了晶体管的稳定性。这种技术， 完全达到了保护钝化器件的目的， 使得器件的性能稳定、可靠， 减少了外界对芯片沾污、干扰， 提高了器件的可靠性能。

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